该喷胶机采用先进的喷嘴设计,确保了喷胶过程中的精确度和重复性。其独特的喷嘴高度调节机制,允许用户根据不同的基材和工艺需求进行微调,从而实现最佳的喷涂效果。此外,喷胶机的加热系统设计精良,能够快速达到设定温度,并保持温度的稳定,这对于保证光刻胶的均匀分布和固化至关重要。

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集束

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喷胶机

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该喷胶机采用先进的喷嘴设计,确保了喷胶过程中的精确度和重复性。其独特的喷嘴高度调节机制,允许用户根据不同的基材和工艺需求进行微调,从而实现最佳的喷涂效果。此外,喷胶机的加热系统设计精良,能够快速达到设定温度,并保持温度的稳定,这对于保证光刻胶的均匀分布和固化至关重要。

1、最低反应温度≤50℃(HfO2、Al2O3); 2、均匀流场,低温工艺颗粒少; 3、深宽比≥70:1,保型生长。

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TALD-150L原子层沉积系统

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1、最低反应温度≤50℃(HfO2、Al2O3); 2、均匀流场,低温工艺颗粒少; 3、深宽比≥70:1,保型生长。

37000v威尼斯电子集成电路产教融合成套设备含曝光机、双腔ALD、PVD、ICP刻蚀机共20台

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热烈祝贺37000v威尼斯电子20套集成电路设备成功进入厦门大学产教融合平台

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37000v威尼斯电子集成电路产教融合成套设备含曝光机、双腔ALD、PVD、ICP刻蚀机共20台

集束型薄膜沉积系统

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集束

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集束型薄膜沉积系统

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