网站首页
37000v威尼斯
原子层沉积系统（ALD）
刻蚀系统（RIE ICP ALE）
磁控溅射系统（PVD）
化学气相沉积系统（CVD）
光刻机（Mask Aligner）
集束型薄膜沉积系统（Cluster）
喷胶机
应用案例
精品案例
新品案例
ALD技术
走进37000v威尼斯
37000v威尼斯介绍
荣誉资质
新闻资讯
公司新闻
行业新闻
视频中心
员工风采
领导视频
37000v威尼斯产品
更多+
联系我们
所属分类: 失效分析（FA）
详情描述
系统特点：
1、最低反应温度≤50℃（HfO2、Al2O3）； 2、均匀流场，低温工艺颗粒少； 3、深宽比≥70:1，保型生长。
产品附件：
上一页
NONE
下一页
相关产品
高密度等离子体刻蚀机
双腔热型原子层沉积系统
等离子体化学气相沉积机
磁控溅射台
如果您对我们的产品感兴趣，请留下您的电子邮件，我们将尽快与您联系，谢谢！
