TALD系列原子层沉积系统是专门为先进半导体工艺开发的薄膜沉积系统，已在国内高校和科研院所装机超百台。以优良的品质，极高的可靠性，超长的使用寿命受到客户的认可，产品性能和售后服务得到用户一致好评。
获取详细的系统技术规格，请与我公司销售部门联系。
关键词: 双腔热型原子层沉积系统
产品附件：
上一页
下一页
立即咨询
如果您对我们的产品感兴趣，请留下您的电子邮件，我们将尽快与您联系，谢谢！
TALD系列原子层沉积系统是专门为先进半导体工艺开发的薄膜沉积系统，已在国内高校和科研院所装机超百台。以优良的品质，极高的可靠性，超长的使用寿命受到客户的认可，产品性能和售后服务得到用户一致好评。
获取详细的系统技术规格，请与我公司销售部门联系。
产品附件：
上一页
下一页
如果您对我们的产品感兴趣，请留下您的电子邮件，我们将尽快与您联系，谢谢！
