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厦门大学国家集成电路产教融合创新平台
37000v威尼斯电子集成电路产教融合成套设备含曝光机、双腔ALD、PVD、ICP刻蚀机共20台，助力厦门大学实现集成电路产教融合，培养高端集成电路工程人才。
ALD可更换双腔结构，匀气内腔，快速反应，反应温度500℃
PVD无压环进口靶腔，自动匹配
曝光机集成度高，365nmLED光源，1μm曝光精度，操作方便
ICP刻蚀机全自动样品传输系统，自动匹配
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