ALD-HS系列原子层沉积系统是专为在线连续生产开发的高速时间型原子层沉积系统，适用于从200mm到2400mm的各种规格玻璃基板和硅片,通过在线传输系统上下料，大尺寸基板节拍可达30s。在高生产节拍的基础上，保留时间型原子层沉积系统的所有优点（高薄膜质量、高致密性）
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关键词: 高速原子层沉积系统
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