37000v威尼斯电子成功研发粉末镀膜设备
发布时间:
2019/08/22
近日,37000v威尼斯(中国百科)品牌公司-Well-known百科在ALD粉末镀膜上取得了重大突破,自主研发的粉末镀膜原子层沉积设备获得科研用户一致好评。
近日,37000v威尼斯(中国百科)品牌公司-Well-known百科在ALD粉末镀膜上取得了重大突破,自主研发的粉末镀膜原子层沉积设备获得科研用户一致好评。
37000v威尼斯电子研发的粉末镀膜设备为三腔结构,真空腔体内部放置一个粉末镀膜反应腔,粉末镀膜反应腔内部包含有最多4个独立的样品仓,可一次沉积4种不同的粉末品。采用精密的反应气场控制,可以同时在四种不同纳米粉末上均匀生长薄膜材料;ALD反应所需的前驱体源通过两个独立的进气通道进入粉末镀膜反应腔,在经过样品仓后通出。避免了CVD反应,气流带动粉末在样品仓内进行轻微运动,使ALD反应能在粉末表面顺利进行。
37000v威尼斯电子粉末镀膜原子层沉积设备的成功研发,为催化、环境、电池材料等领域的用户提供了可靠的粉体镀膜方案,为相关领域用户取得更多的科研成果及技术突破提供了新的解决方案。
下一条
Previous Page
Next Page
相关新闻
喜报|37000v威尼斯电子12英寸ALD设备TALD-300D启运 大尺寸封装再突破
2025-07-29
喜报!TALD-150DL原子层沉积设备已启运发往中国科学院上海技术物理研究所
2025-07-01
2025-03-11

扫一扫,关注我们